1.利用層流原理，提高了沉淀池的處理能力；

   2.縮短了顆粒沉降距離，從而縮短了沉淀時間；

   3.增加了沉淀池的沉淀面積，從而提高了處理效率。

  這種類型的沉淀池比一般沉淀池的處理能力高出7-10倍，是一種新型的沉淀設備。并已定型用于生產實踐。優點：去除率高，停留時間短，占地面積小。

因此，技術的轉移和引進對于雙方來說，是互利共贏的事情。在今后，對半導體等高科技產業的研發投入會更多。我們不但在數量上要趕超發達，在產業發展水平、科技附加值等方面也力圖縮小差距。此外，由于像半導體這樣的高科技產業種類繁多，我們一方面要注重戰略設計，運用比較優勢，重點開發，揚長避短，解決一些“卡脖子”的關鍵環節。另一方面，要培養高素質的勞動力，改善高科技產業的配套設施。正如近幾日，工信部等部門聯合發布的《制造業人才發展規劃指南》標志著《制造2025》“1+X”規劃體系的基本完成。