應用范圍：太陽能硅片、半導體等。
■清洗方式：超聲清洗。
■設備手動控制，操作簡單。
■清洗過程，控制時間可調。
■具備拋動清洗功能，確保清洗均勻。
■超聲功率與超聲頻率可根據需要調整。
Applied range : solar wafers, semiconductors, etc.
■Cleaning: ultrasonic cleaning.
■Equipment control, easy to operate,
■The cleaning process:the controlling time is adjustable.
■Have the cleaning function of parabolic move,to ensure it cleans uniform.
■Ultrasonic power and ultrasonic frequency may adjust according to the needs.
